磁控溅射沉积W-Ti薄膜的结构与性能

doi:10.13251/j.issn.0254-6051.2016.10.020

金属热处理

磁控溅射沉积W-Ti薄膜的结构与性能

昆明理工大学材料科学与工程学院

出版日期:2016-10-25 发布日期:2016-11-09
基金资助:
国家自然科学基金(50871049)；云南省自然科学基金重点资助项目(2004E0004Z)

Structure and properties of W-Ti thin films deposited by magnetron sputtering

School of Materials Science and Engineering, Kunming University of Science and Technology

Online:2016-10-25 Published:2016-11-09

摘要/Abstract

摘要： 采用复合靶磁控共溅射方法在p型(100)单晶硅衬底上制备了不同Ti含量的W-Ti薄膜，并与纯W和纯Ti薄膜作对比。采用XRD、SEM、AFM、显微硬度计和四探针电阻仪对薄膜的结构、成分及性能进行分析表征。结果表明，W-Ti薄膜呈细晶粒多晶结构，Ti含量较低时，W-Ti薄膜呈体心立方相结构，存在W基W(Ti)固溶体。Ti含量较高时，还出现hcp富Ti相。W-Ti薄膜的显微硬度随Ti含量的增加先增后减，而电阻率则随Ti含量的增加而增大。W-Ti薄膜显微硬度均高于纯Ti薄膜，电阻率则高于纯W而低于纯Ti薄膜。

关键词: W-Ti薄膜, 磁控共溅射, 结构, 显微硬度, 电阻率

Key words: W-Ti thin films, magnetron co-sputtering, structure, microhardness, resistivity

中图分类号:

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Structure and properties of W-Ti thin films deposited by magnetron sputtering

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