316L不锈钢直流磁控溅射制备铝膜的工艺研究

doi:10.13251/j.issn.0254-6051.2015.01.026

金属热处理

316L不锈钢直流磁控溅射制备铝膜的工艺研究

核工业西南物理研究院; 四川材料与工艺研究所; 南华大学电气工程学院

出版日期:2015-01-26 发布日期:2015-01-30
基金资助:
ITER计划国内配套专项课题（2013GB110006）; 国家自然科学基金（11305054、11305055）

Al thin film deposited on 316L stainless steel by DC magnetron sputtering

Southwestern Institute of Physics; Sichuan Institute of Materials and Technology; College of Electrical Engineering, University of South China

Online:2015-01-26 Published:2015-01-30

摘要/Abstract

摘要： 采用直流磁控溅射在316L不锈钢上制备了高质量的Al膜，并利用扫描电镜、X射线衍射仪分别对镀层的形貌和结构及应力进行了分析。结果表明：温度、溅射功率之间的合理配置才能制备致密性高、表面缺陷少的Al膜, 较优工艺参数温度为170 ℃、溅射功功率1400 W；温度比溅射功率更容易改善结晶度，当溅射功率高、基体温度低，薄膜趋向非晶态；制备的薄膜应力小，最大约为0.176 GPa，微结构对应力影响大。

关键词: 铝膜, 316L不锈钢, 直流磁控溅射, 结晶度, 致密性, 残余应力

Key words: Al thin film, 316L stainless steel, DC magnetron sputtering, crystallinity, density；residual stress

中图分类号:

TB43

冯军, 童洪辉, 金凡亚, 陈美艳, 赖新春. 316L不锈钢直流磁控溅射制备铝膜的工艺研究[J]. 金属热处理, doi: 10.13251/j.issn.0254-6051.2015.01.026.

Feng Jun, Tong Honghui, Jin Fanya, Chen Meiyan, Lai Xinchun. Al thin film deposited on 316L stainless steel by DC magnetron sputtering[J]. HTM, doi: 10.13251/j.issn.0254-6051.2015.01.026.

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316L不锈钢直流磁控溅射制备铝膜的工艺研究

Al thin film deposited on 316L stainless steel by DC magnetron sputtering

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