金属热处理

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离子渗氮对TiN薄膜组织与性能的影响

  

  1. 1. 核工业西南物理研究院;2. 南华大学;3. 四川材料与工艺研究所
  • 出版日期:2015-03-02 发布日期:2015-03-09
  • 基金资助:
    ITER计划国内配套专项课题(2013GB110006);国家自然科学基金项目(11305054、11305055)

Effects of plasma nitriding on microstructure and properties of TiN thin film

  1. 1. Southwestern Institute of Physics; 2. University of South China; 3. Sichuan Institute of Materials and Technology
  • Online:2015-03-02 Published:2015-03-09

摘要: 为进一步提高TiN膜层的性能,对其进行了离子渗氮处理。利用XRD分析、SEM观察、硬度试验和摩擦磨损试验对TiN薄膜离子渗氮前后的组织与性能进行了分析。结果表明离子渗氮后,膜层物相主要为TiN,出现晶格畸变、择优取向生长现象,表面得到净化更平整,硬度、耐磨性得到较大提高。

关键词: TiN, 薄膜, 离子渗氮, 硬度, 摩擦磨损

Key words: TiN, thin film, plasma nitriding, hardness, abrasive wear resistance

中图分类号: