金属热处理
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摘要： 采用直流磁控溅射技术，以掺Al为2%的ZnO陶瓷靶为靶材，通用的304不锈钢为衬底，制备了一系列ZnO:Al薄膜，研究了溅射功率对样品薄膜结构和表面形貌、光学特性的影响。结果表明：制备的薄膜都为六方纤锌矿结构，并有高度的c轴择优取向；溅射功率对薄膜的性能有显著的影响，即随着溅射功率的增大，从35 W到80 W，晶粒尺寸先增大后减小，薄膜表面陷光结构先变好后变坏，最优值出现在溅射功率为65 W时，此时薄膜对波长小于360 nm的光吸收率约为91%。
关键词: 直流磁控溅射, ZAO薄膜, 不锈钢衬底, 溅射功率
Key words: DC magnetron sputtering, ZAO films, stainless?steel substrate, sputtering power
中图分类号:
TB333
O484
杨恢东，张翠媛，王河深，李姗，李心茹，吴浪. 溅射功率对不锈钢衬底ZnO:Al薄膜性能的影响[J]. 金属热处理, doi: 10.13251/j.issn.0254-6051.2016.07.021.
Yang Huidong,Zhang Cuiyuan，Wang Heshen,Li Shan,Li Xinru,Wu Lang. Effect of sputtering power on properties of ZnO:Al films on stainless steel substrates[J]. HTM, doi: 10.13251/j.issn.0254-6051.2016.07.021.
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