靶基间距对电弧离子镀中大颗粒形貌和分布的影响

doi:10.13251/j.issn.0254-6051.2014.07.031

金属热处理 ›› 2014, Vol. 39 ›› Issue (7): 130-134.DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2014.07.031

靶基间距对电弧离子镀中大颗粒形貌和分布的影响

郑州航空工业管理学院机电工程学院; 航空制造及装备河南省高校工程技术研究中心; 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室

出版日期:2014-07-25 发布日期:2014-07-31
基金资助:
航空科学基金(2012ZE55011); 国家自然科学基金(51105344); 河南省教育厅科学技术研究重点项目(13A430397和14A140026); 河南省科技厅基础与前沿技术研究(132300410241)和科技攻关(142102210504); 河南省高校科技创新团队(2012IRTSTHN014)

Influence of distance between target and substrate on morphology and distribution of macroparticles during arc ion plating

School of Mechatronic Engineering, Zhengzhou Institute of Aeronautical Industry Management; Engineering Technology Research Center of Aviation Manufacturing and Equipment, University of Henan Province; State Key Laboratory of Advanced Welding and Joining, Harbin Institute of Technology

Online:2014-07-25 Published:2014-07-31

摘要/Abstract

摘要： 利用电弧离子镀方法在基体上制备了TiN薄膜，研究了靶基间距对大颗粒形貌和分布规律的影响。采用扫描电子显微镜（SEM）观察了TiN薄膜的表面形貌，利用ImageJ科学图像软件对Ti大颗粒的数目和尺寸进行了分析。结果表明：随着靶基间距的增加，薄膜表面的大颗粒数目迅速降低，在靠近弧源最近的15 cm位置处大颗粒数目最多，出现了典型的长条状形貌，同时大颗粒所占的面积比也最大。为了兼顾薄膜的沉积速率和消除大颗粒缺陷的不利影响，最佳的靶基距离为20~30 cm。

关键词: 电弧离子镀, 薄膜, 大颗粒, 分布

Key words: arc ion plating, film, macroparticles (MPs), distribution

中图分类号:

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Influence of distance between target and substrate on morphology and distribution of macroparticles during arc ion plating

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