金属热处理

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磁控溅射TiO2薄膜的相结构转变温度

  

  1. 辽宁工业大学 材料科学与工程学院
  • 出版日期:2016-09-25 发布日期:2016-09-18
  • 基金资助:
    国家教育部重点项目(2012031);辽宁省自然科学基金(201204916);辽宁省人才基金(LJQ2013068);辽宁省教育厅创新团队(LT2013014)

Transition temperature of phase structure of TiO2 thin films prepared by magnetron sputtering

  1. School of Materials Science and Engineering, Liaoning University of Technology
  • Online:2016-09-25 Published:2016-09-18

摘要: 利用射频磁控溅射制备了TiO2致密薄膜,并通过退火处理实现TiO2的相转变,采用扫描电镜,X射线衍射等手段对薄膜相结构进行表征并做了详细的分析,结果表明,退火后TiO2薄膜结构致密,表面呈现出大小均匀的纳米晶粒。400 ℃退火时,TiO2薄膜为单一的锐钛矿相,500~600 ℃退火时为锐钛矿和金红石混合相,700 ℃以上退火时则完全转变为金红石相。

关键词: 磁控溅射, TiO2薄膜, 退火

Key words: RF magnetron sputtering, TiO2 thin films, annealing

中图分类号: